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一种离子注入装置，包括屏蔽房、依次设置的离子源、引出电极、分析器、分析光栏、聚焦透镜、加速管、对称静电扫描电极以及均匀磁场平行透镜，屏蔽房内设有相互隔离的第一腔室和第二腔室，第一腔室内设有高压仓，第二腔室内设有靶室，离子源、引出电极、分析器...
该专利属于中国电子科技集团公司第四十八研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第四十八研究所授权不得商用。

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