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本发明属于PVD溅射技术领域，公开了一种全固态绝缘透波PVD膜层及其制备方法和应用。本发明的的全固态绝缘透波PVD膜层包括Si‑M‑N层；任选地，所述Si‑M‑N层上还有Si‑M‑C层或/和L‑O层，Si‑M‑N层作为打底层；其中，所述M为...该专利属于创隆实业(深圳)有限公司;华为技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过创隆实业(深圳)有限公司;华为技术有限公司授权不得商用。