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一种高速DFB激光器外延结构制造技术
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下载一种高速DFB激光器外延结构的技术资料
文档序号:23914560
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本实用新型提供一种高速DFB激光器外延结构,包括InP衬底,在衬底InP衬底由下至上依次沉积有缓冲层、有源区限制层、下波导层、量子阱、上波导层、有源区上限制层、过渡层、光栅层、联接层、第一势垒渐变层、第二势垒渐变层和欧姆接触层,所述过渡层内...
该专利属于全磊光电股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过全磊光电股份有限公司授权不得商用。
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