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本发明提供了一镀膜设备，其中所述镀膜设备包括一反应腔体、一气体供给部、一真空抽气装置、一脉冲电源以及一射频电源，其中所述反应腔体具有一反应腔，其中所述气体供给部用于向所述反应腔供给气体，其中所述真空抽气装置被可连通于所述反应腔地连接于所述反...
该专利属于江苏菲沃泰纳米科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏菲沃泰纳米科技有限公司授权不得商用。

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