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本发明公开了一种半导体清洗设备，包括清洗盘，清洗盘用于放置晶圆片；驱动组件，驱动组件驱动清洗盘高速旋转的驱动组件；真空组件，真空组件将晶圆片吸附在清洗盘上；清洗组件，清洗组件用于向晶圆片喷射清洗液；多个升降机构，每个升降机构的升降端设置有多...
该专利属于上海至纯洁净系统科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海至纯洁净系统科技股份有限公司授权不得商用。

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