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一种用于蚀刻衬底的方法，其包括使用等离子体蚀刻工艺在等离子体室中对衬底材料进行第一蚀刻。第一蚀刻使特征在材料中形成至第一深度。在第一蚀刻之后，该方法包括在没有从室中去除衬底的情况下，在等离子体室中执行原子层钝化(ALP)工艺，以在掩模和第一...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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