温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明描述了用于从凹陷特征的侧壁横向蚀刻不需要的材料的方法和装置。在各种实施方案中，该方法包括蚀刻侧壁的一部分，在侧壁的一部分上沉积保护膜，以及循环进行蚀刻和沉积操作，直到从凹陷特征的整个深度去除不需要的材料为止。每个蚀刻和沉积操作可以沿着...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。