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用于外延沉积工艺的注入组件制造技术
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下载用于外延沉积工艺的注入组件的技术资料
文档序号:23774892
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在一个实施方式中,一种气体引入插件包括:气体分配组件,具有主体;复数个气体注入通道,形成于气体分配组件内,复数个气体注入通道的至少一部分邻接于在气体分配组件中形成的盲通道;和整流板,定界复数个气体注入通道和盲通道的一侧,整流板包括未穿孔部分...
该专利属于应用材料公司所有,仅供学习研究参考,未经过应用材料公司授权不得商用。
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