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本发明提供一种能够切实地抑制电化学腐蚀、浴管理容易且蚀刻速度优异的铜蚀刻液。本发明的铜蚀刻液是由碱性的水溶液构成的铜蚀刻液，其特征在于，含有1～70g/L的铜、换算成25％氨水时为10～500g/L的氨水及5～500g/L的铵盐，所述铵盐为...
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