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本发明提供一种阵列基板及其制作方法。阵列基板的制作方法，包括制作源漏极层步骤，所述源漏极层包括从下至上依次层叠设置的下阻隔层、导电层以及上阻隔层，所述制作源漏极层步骤包括：上阻隔层亲油性处理以及制作光阻层。本发明通过改变构成源漏极层的上阻隔...
该专利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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