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本发明公开了一种TFT基板的离子注入方法，步骤如下：将掩膜板与TFT基板进行对位，使所述掩膜板上的开口区与所述TFT基板的待掺杂区对齐，所述掩膜板上的非开口区与所述TFT基板的非掺杂区对齐；发射离子束，使所述离子束透过所述掩膜板的开口区对所...
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