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本发明提供一种塞来昔布基因毒性杂质的制备方法，所述制备方法如下：步骤一：G1和G2环合生成G3；步骤二：G3磺酰化得到G4；步骤三：G4生成G5；投入G4和甲醇；本发明的一种塞来昔布基因毒性杂质的制备方法得到的最终产品纯度约97％，总收率约...
该专利属于武汉光谷亚太医药研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉光谷亚太医药研究院有限公司授权不得商用。

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