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本发明涉及化学机械抛光技术领域，公开了一种压力控制装置和化学机械抛光装置。压力控制装置包括压力控制模块和第一压力传感器，压力控制模块中集成有正压控制单元和负压控制单元；正压控制单元的输入端连接正压供给源，负压控制单元的输入端连接负压供给源，...
该专利属于清华大学;天津华海清科机电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学;天津华海清科机电科技有限公司授权不得商用。

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