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本实用新型涉及一种增强型离子源，属于离子源的技术领域；所述离子源腔室沿工作气体流动方向依次设置有气体入口、气体均布室、气体出口、电离室与离子射出口；所述电离室用于工作气体的电离；所述气体均布室用于工作气体的流速降低和均匀分布。本实用新型设有...
该专利属于合肥如一真空设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥如一真空设备有限公司授权不得商用。

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