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扩散阻障结构、导电迭层及其制法制造技术
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文档序号:23707935
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本发明公开一种扩散阻障结构、导电迭层及其制法。导电迭层包括一基板、一扩散阻障结构以及一导电层,扩散阻障结构形成于基板和导电层之间,扩散阻障结构包括一非连续改质层以及一阻障层,非连续改质层设置于所述基板上,所述非连续改质层的材料是一具有亲水基...
该专利属于卫子健所有,仅供学习研究参考,未经过卫子健授权不得商用。
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