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本发明提供了一种曝光装置及曝光方法，所述曝光装置中的所述写入光束可以触发光刻胶光聚合反应的发生，所述抑制光束抑制光刻胶光聚合反应的发生。待曝光光刻胶中含有触发聚合基团与抑制聚合基团，将写入光束和抑制光束合束然后在光刻胶表面形成曝光光斑。所述...
该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。

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