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本发明涉及一种强度自适应的等离子体射流装置和方法，包括等离子体产生组件、等离子体射流喷出通道、设置于等离子体射流喷出通道上的电流采集组件以及与电流采集组件连接的控制芯片，所述的控制芯片与等离子体产生组件连接，根据电流采集组件测得的电流，控制...
该专利属于上海工程技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海工程技术大学授权不得商用。

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