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本揭示案的实施例描述一种离子植入系统及其衬套。离子植入系统包括设计成减少IMP副产物累积在衬套内表面上的衬套。离子植入系统可包括腔室、配置成生成离子束的离子源、及耦接离子源与腔室的衬套。衬套可包括(i)具有内表面、第一端及第二端的管状体，及...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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