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本实用新型公开了一种平面结构沟道金氧半场效晶体管。平面结构沟道金氧半场效晶体管包括基体,基体自下而上分别包括第一基板和第二基板,第一基板为P型晶圆基板,第二基板经过深N‑阱工艺处理。第二基板的上表面形成有多个相互间隔的沟道,沟道中形成有栅极...该专利属于无锡沃达科半导体技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡沃达科半导体技术有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种平面结构沟道金氧半场效晶体管。平面结构沟道金氧半场效晶体管包括基体,基体自下而上分别包括第一基板和第二基板,第一基板为P型晶圆基板,第二基板经过深N‑阱工艺处理。第二基板的上表面形成有多个相互间隔的沟道,沟道中形成有栅极...