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本发明公开了一种硅片清洗方法，包括：将硅片放入第一溶液中，并在所述第一溶液中通入臭氧；其中，所述第一溶液包括盐酸；将所述硅片从第一溶液中取出，放入第二溶液中，所述第二溶液包括硝酸和氢氟酸；将所述硅片从第二溶液中取出，放入第三溶液中，并在所述...
该专利属于君泰创新(北京)科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过君泰创新(北京)科技有限公司授权不得商用。

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