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烧结体、溅射靶及烧结体的制造方法技术
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文档序号:23620977
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提供一种可为适当的机械强度,且有效地降低体电阻、可抑制异常放电的发生的烧结体、溅射靶及烧结体的制造方法。本发明的烧结体是含有In、Ga及Zn的氧化物的烧结体,其满足0.317<In/(In+Ga+Zn)≤0.350、0.317<...
该专利属于JX金属株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过JX金属株式会社授权不得商用。
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