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本发明提供一种薄膜沉积设备，在一个外部腔室内装入多个盒子，而具有能够进行原子层沉积工艺的多个工艺腔室，对多张基板同时均匀地执行原子层沉积工艺。...
该专利属于NCD有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过NCD有限公司授权不得商用。

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