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本发明涉及微纳结构技术领域，具体公开了一种磁场吸附辅助掩模蒸镀微纳结构的制备方法，它包括以下步骤：a)利用丙酮和异丙醇清洗处理自支撑的氮化硅(或氧化硅)硅片，并用氮气吹干；b)利用镀膜技术，在自支撑硅片正面蒸镀100～200nm厚度的磁性金...
该专利属于苏州逸峰新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州逸峰新材料科技有限公司授权不得商用。

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