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一种具火焰通道的半导体废气处理装置，其特征在于包括：　　　　在废器处理槽顶部头座的废气出口端架构形成一火焰通道，该火焰通道包括具有至少一层或一层以上的燃气喷环，各喷环皆具有燃气槽，以环状方式藏设于头座内，并连接一外部燃气导管，该燃气喷环上设...
该专利属于冯五良所有，仅供学习研究参考，未经过冯五良授权不得商用。

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