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本发明提供了一种扫描式激光辅助微弧氧化装置及方法，本发明装置无电解槽尺寸束缚，无需超大功率电源，可以进行局部强化或修复处理，降低能耗、提高成膜效率及膜层质量，能够降低微弧氧化起弧电压与能耗，使微弧氧化更容易进行，更快进入到成膜阶段，能够实现...
该专利属于浙江工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江工业大学授权不得商用。

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