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本发明提供一种渐变尺寸的纳米通道的制作方法，包括：纳米线条结构模板的制作：在石英玻璃基片一的一侧表面涂覆光刻胶一；然后进行全息曝光，曝光结束后显影，直至在光刻胶一出现纳米线条结构；将显影后的光刻胶一在保护气下进行离子束刻蚀，刻蚀结束后去除光...该专利属于深圳先进技术研究院;广州中国科学院先进技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过深圳先进技术研究院;广州中国科学院先进技术研究所授权不得商用。