一种渐变尺寸的纳米通道的制作方法技术

本发明专利技术提供一种渐变尺寸的纳米通道的制作方法，包括：纳米线条结构模板的制作：在石英玻璃基片一的一侧表面涂覆光刻胶一；然后进行全息曝光，曝光结束后显影，直至在光刻胶一出现纳米线条结构；将显影后的光刻胶一在保护气下进行离子束刻蚀，刻蚀结束后去除光刻胶得到纳米线条结构模板；纳米压印转移模板上的纳米线条结构：在石英玻璃基片二上涂覆光刻胶二；将纳米线条结构模板涂覆脱模剂后压入光刻胶二，进行紫外曝光，直至该模板上的纳米线条结构转移到光刻胶二上；转移完成后，将光刻胶二进行改性固化，脱除纳米线条结构模板；将纳米线条结构基片上纳米线条结构区域分成若干部分，按照顺序以渐变角度一一进行二氧化硅薄膜沉积。

A fabrication method of nano channel with gradual size

【技术实现步骤摘要】
一种渐变尺寸的纳米通道的制作方法
本专利技术涉及纳米通道的制作方法，具体涉及一种渐变尺寸的纳米通道的制作方法。
技术介绍
微纳流控芯片可将生物和化学等领域中所涉及的样品制备、生化反应、分离、检测等基本操作微缩到一个几十平方厘米大小的基底上。通过设计适当的微纳通道结构，流体能在通道中按照一定方式流动，从而使芯片在整体上获得特定的功能。然而随着通道尺寸的减小，尺寸效应的影响将会提高，微纳通道中的流体会出现一些与宏观流体不一样的特异性质。例如当通道尺寸到达纳米级时，量子效应、界面效应和纳米尺度效应将不可忽略。因此基于纳米通道的流体系统越来越受到人们的关注。利用和研究纳米流体系统，其前提是制作纳米通道。传统的纳米通道制作方法，是先通过纳米压印、掩膜板光刻或者电子束直写等技术制作聚合物微纳米沟槽结构，然后结合热键合技术实现通道的顶部密封。热键合技术是将键合层通过加热粘连微纳米沟槽，以封闭沟槽顶部形成通道的技术。在外部压力作用下，高于玻璃态温度的高聚物键合层通过浸润和粘合作用实现界面处分子链的纠缠，实现紧密的界面接触。图1是常规热键合技术的流程简图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种渐变尺寸的纳米通道的制作方法，其特征在于：包括以下步骤：/n步骤1，纳米线条结构模板的制作；/n步骤1.1，在石英玻璃基片一的一侧表面涂覆光刻胶一；/n步骤1.2，对光刻胶一进行全息曝光，曝光结束后显影，直至在光刻胶一出现纳米线条结构；/n步骤1.3，将显影后的光刻胶一在保护气下进行离子束刻蚀，刻蚀结束后去除光刻胶得到纳米线条结构模板；/n步骤2，纳米压印转移模板上的纳米线条结构；/n步骤2.1，在石英玻璃基片二上涂覆光刻胶二；/n步骤2.2，将步骤1获得的纳米线条结构模板涂覆脱模剂后压入光刻胶二后对其进行紫外曝光直至该模板上的纳米线条结构转移到光刻胶二上；/n步骤2.3，转移完成后，...

【技术特征摘要】
1.一种渐变尺寸的纳米通道的制作方法，其特征在于：包括以下步骤：
步骤1，纳米线条结构模板的制作；
步骤1.1，在石英玻璃基片一的一侧表面涂覆光刻胶一；
步骤1.2，对光刻胶一进行全息曝光，曝光结束后显影，直至在光刻胶一出现纳米线条结构；
步骤1.3，将显影后的光刻胶一在保护气下进行离子束刻蚀，刻蚀结束后去除光刻胶得到纳米线条结构模板；
步骤2，纳米压印转移模板上的纳米线条结构；
步骤2.1，在石英玻璃基片二上涂覆光刻胶二；
步骤2.2，将步骤1获得的纳米线条结构模板涂覆脱模剂后压入光刻胶二后对其进行紫外曝光直至该模板上的纳米线条结构转移到光刻胶二上；
步骤2.3，转移完成后，将光刻胶二进行改性固化，脱除纳米线条结构模板，得到纳米线条结构基片；
步骤3，将纳米线条结构基片上纳米线条结构区域分成若干部分，按照顺序以渐变角度将二氧化硅薄膜一一沉积在每部分的纳米线条结构表面，以形成渐变尺寸的纳米通道。


2.根据权利要求1所述的一种渐变尺寸的纳米通道的制作方法，其特征在于：所述步骤1.1中，涂覆光刻胶一的条件为：匀胶机转速1000～2000r/min，时间为30s，涂覆厚度为180～220nm，并于90℃保温30min。


3.根据权利要求1所述的一种渐变尺寸的纳米通道的制作方法，其特征在于：所述步骤1.2中，全息曝...

【专利技术属性】
技术研发人员：金建，邸思，袁海，
申请(专利权)人：深圳先进技术研究院，广州中国科学院先进技术研究所，
类型：发明
国别省市：广东;44