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本申请涉及一种用于构建基材(11)的方法，并且包括以下步骤：提供设备(2)，该设备包括光源(21)、用于获得相对于入射光束(8)在空间上偏移的出射光束(7)并且适于改变该空间偏移的光学系统(3)、用于聚焦出射光束(7)的聚焦装置(9)、基材...
该专利属于激光工程应用公司所有，仅供学习研究参考，未经过激光工程应用公司授权不得商用。

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