【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于构建基材的方法、包括基材和用于构建所述基材的设备的组件、以及具有这种结构的基材
根据第一方面，本专利技术涉及一种构建基材的方法。本专利技术还涉及一种组装两种不同材料的方法、包括用于构建基材的设备和所述基材的组件、一种组装两种不同材料的系统、以及一种根据本专利技术第一方面的构建方法所构建的基材。
技术介绍
构建基材是已知的，以便改变其表面性能，特别是与第二材料制造组件。接触表面的改变包括例如增加基材与第二材料之间的接触表面。增加接触表面需要例如用机械、化学和/或光学手段来构建基材的表面。为了与第二材料发生接触做准备而构建基材的表面，然后用于改善组件的机械性能。在不添加中间材料的情况下增加基材与第二材料之间的接触表面的限制在于仅增加原子间或分子间键的数量。在基材与第二材料形成弱的原子间或分子间键的情况下，增加基材与第二材料之间的接触表面的通常不能获取良好的组件。
技术实现思路
根据第一方面，本专利技术的目的之一是提出一种用于构建基材的表面的方法，然后可以将基材通过其构建表面组装到第...
【技术保护点】
1.一种用于构建具有上表面(16)和下表面的基材(11)的方法，所述方法包括以下步骤：/na)提供设备(100)，该设备包括：/n-光源(33)，其用于产生能够加工所述基材(11)的所述上表面(16)的构建入射光束(1)；/n-光学系统(2)，其用于从所述入射光束(1)获得相对于所述入射光束(1)在空间上偏移的出射光束(7)，所述光学系统(2)能够改变所述入射光束(1)与所述出射光束(7)之间的空间偏移；/n-聚焦装置(9)，其用于聚焦所述出射光束(7)；/n-基材保持器(59)；/n-移动设备(60)，其用于在所述出射光束(7)与所述基材保持器(59)之间产生相对运动(4...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170627 BE BE2017/54551.一种用于构建具有上表面(16)和下表面的基材(11)的方法，所述方法包括以下步骤：
a)提供设备(100)，该设备包括：
-光源(33)，其用于产生能够加工所述基材(11)的所述上表面(16)的构建入射光束(1)；
-光学系统(2)，其用于从所述入射光束(1)获得相对于所述入射光束(1)在空间上偏移的出射光束(7)，所述光学系统(2)能够改变所述入射光束(1)与所述出射光束(7)之间的空间偏移；
-聚焦装置(9)，其用于聚焦所述出射光束(7)；
-基材保持器(59)；
-移动设备(60)，其用于在所述出射光束(7)与所述基材保持器(59)之间产生相对运动(41)；
b)提供所述基材(11)并将所述基材放置在所述基材保持器(59)上，以使其以法线(106)为特征的上表面(16)朝向所述聚焦装置(9)；
c)用所述光源(33)产生所述入射光束(1)；
d)当所述入射光束穿过所述光学系统(2)然后穿过所述聚焦装置(9)时，由所述入射光束(1)产生聚焦的出射光束(7)，对于由所述光学系统(2)施加的出射光束(7)与入射光束(1)之间的任何空间偏移，该聚焦的出射光束与所述基材(11)的所述上表面(16)的所述法线(106)一起在所述出射光束(7)的聚焦点处描述大于1°、优选地大于3°的迎角(107)；
e)启动支撑所述基材(11)的所述基材保持器(59)与所述聚焦的出射光束(7)之间的相对运动，以便从所述基材(11)的上表面(16)蚀刻图案(17)，所形成的图案(17)包括所述基材(11)中的腔体(3)，该腔体通过所述基材(11)的上表面(16)处的开口(4)来开口；
根据在步骤e)中启动的所述相对运动来定义所述光源(33)的参数，以便产生所述入射光束，使得所形成的图案(17)的腔体(3)在所述基材(11)的所述上表面(16)与所述下表面之间是非贯通的。
2.根据前一权利要求所述的方法，其特征在于，所述基材(11)与所述出射光束(7)之间的相对运动是在平行于所述上表面(16)的平面中的相对运动，使得聚焦的出射光束(7)能够在基本平坦的表面上从所述上表面(16)蚀刻图案(17)，该基本平坦的表面具有大于1cm2、优选地大于10cm2、甚至更优选地大于100cm2的面积。
3.根据前述权利要求中任一项的方法，其特征在于，所述基材(11)包括与所述上表面(16)基本上隔开所述基材(11)的厚度的下表面，所述腔体(3)在所述基材(11)的所述上表面(16)与所述下表面之间是非贯通的，并且在所述下表面处不开口。
4.根据前述权利要求中任一项的方法，其特征在于，所述移动设备(60)被启用，以与所述光源(33)同时地在所述基材(11)与所述出射光束(7)之间产生运动。
5.根据前一权利要求的方法，其特征在于，由所述光学系统(2)施加的入射光束(1)与出射光束(7)之间的空间偏移相对于所述聚焦装置(9)是固定的空间偏移，以便蚀刻具有腔体(3)的图案，所述腔体(3)包括：
-在所述基材(11)的所述上表面(16)上的开口(4)处，在基本垂直于基材(11)的所述上表面(16)的平面中限定的第一端(51)和第二端(52)，
-由所述开口(4)的所述第一端(51)和第二端(52)之间的距离限定的开口宽度(5)，
-基本平行于所述开口宽度(5)限定的腔体宽度(3)，该腔体宽度基本上沿着所述基材(11)的厚度从所述上表面(16)减小。
6.根据权利要求1至4中任一项的方法，其特征在于，所述腔体(3)包括：
-在所述基材(11)的所述上表面(16)上的开口(4)处，在基本垂直于基材(11)的所述上表面(16)的平面中限定的第一端(51)和第二端(52)，
-由所述开口(4)的所述第一端(51)和第二端(52)之间的距离限定的开口宽度(5)，
所述开口宽度(5)严格地小于腔体(3)的最大宽度(6)，所述最大宽度在所述基材(11)的厚度中基本平行于所述开口宽度(5)而限定。
7.根据前两项权利要求中任一项的方法，其特征在于，所述腔体(3)的特征在于负锥度角(108)，该负锥度角包括在0°和7°之间、优选地在0.01°和5°之间，所述负锥度角(108)限定在基材(11)的上表面(16)的法线(106)与穿过所述开口宽度(5)的所述第一端(51)的直线之间。
8.根据前述权利要求中任一项的方法，其特征在于，所述光学系统(2)包括：
-反射镜(19)：
o具有由法线(26)限定的基本平坦的反射表面，用于从来自所述入射光束(1)的第一进射光束(4)获得第一反射光束(23)，
o能移动；
-用于移动所述可移动反射镜(19)的驱动装置(6)；
-重新定向系统：
o其相对于所述反射镜(19)定位，用于从所述第一反射光束(23)获得到所述反射镜(19)的第二进射光束(8)，用于从所述第二进射光束(8)在所述可移动反射镜(19)上的反射获得所述出射光束(7)。
9.根据权利要求1至7中任一项的方法，其特征在于，所述光学系统(2)包括：
-反射镜(19)：
o具有由法线(26)限定的基本平坦的反射表面，用于从来自所述入射光束(1)的第一进射光束(4)获得第一反射光束(23)，
o能移动，使得其法线(26)能够描述三维空间中的轨迹；
所述光学系统(2)被构造成使得对于所述可移动反射镜(19)的所有可能的位置和定向，所述第一进射光束(4)和所述反射镜(19)的所述法线(26)以0°至15°之间、优选地0.01°至10°之间、甚至更优选地3°至8°之间的角度(15)分开；
-用于移动所述可移动反射镜(19)的驱动装置(6)；
-回复反射系统(21)：
o其相对于所述反射镜(19)定位，用于针对所述反射镜(19)的所有位置和定向从所述第一反射光束(23)获得到所述反射镜(19)的第二进射光束(8)，用于从所述第二进射光束(8)在所述可移动反射镜(19)上的反射获得所述出射光束(7)，并且
o对于所述可移动反射镜(19)的所有可能的位置和定向，能够在所述反射镜(19)上提供平行于所述第一反射光束(23)的所述第二进射光束(8)。
10.根据前一权利要求所述的方法，其特征在于，所述光学系统被构造成使得对于所述可移动反射镜(19)的所有可能的位置和定向，所述第一进射光束(4)和所述反射镜(19)的所述法线(26)以0.01°至10°之间、优选地0.1°至8°之间、甚至更优选地3°至8°之间的角度(15)分开。
11.根据前述权利要求中任一项的方法，其特征在于，所述设备(100)进一步包括定位在所述光学系统(2)与所述聚焦装置(9)之间的偏转系统，以使所述出射光束(7)偏移。
12.根据前述权利要求中任一项的方法，其特征在于，所述聚焦装置(9)被设计用于将所述出射光束(7)聚焦在所述基材(11)的上表面(16)上。
13.根据前述权利要求中任一项的方法，其特征在于，所述聚焦装置(9)被设计成对于所述可移动反射镜(19)的所有可能的位置和定向，用于将所述出射光束(7)聚焦在聚焦平面中。
14.根据前述权利要求中任一项的方法，其特征在于，对于由所述光学系统(2)施加的出射光束(7)与入射光束(1)之间的任何空间偏移，迎角(107)在1°和15°之间、优选地在2°和5°之间、更优选地在3°和4°之间。
15.根据前述权利要求中任一项的方法，其特征在于，所述光学系统(2)能够引起所述聚焦的出射光束(7)相对于所述基材(11)的上表面(16)的旋进运动。
16.一种...
【专利技术属性】
技术研发人员：保罗艾蒂安·马丁，安妮·亨罗汀，塞巴斯蒂安·埃斯蒂瓦尔，阿克塞尔·斯蒂芬·M·库皮西维奇，约瑟·拉莫斯·德·坎普斯，
申请(专利权)人：激光工程应用公司，
类型：发明
国别省市：比利时;BE
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