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本发明公开了一种基于圆柱面基准约束与余量约束的配准方法，包括以下步骤：S1：根据圆柱面选择理论圆柱面基准；S2：对零件的待加工面和参考部分别进行检测；S3：通过对圆柱面检测点进行拟合得到拟合圆柱面基准，通过理论圆柱面基准向拟合圆柱面基准运动...
该专利属于中国航空制造技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国航空制造技术研究院授权不得商用。

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