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本发明提供了一种免电镀屏蔽材料的制作工艺，包括如下步骤：步骤一、基材上制作均匀分布的微孔；步骤二、对带有微孔的基材电晕处理；步骤三、真空溅射初级镀层：采用纳米级金属粉对电晕处理后的基材进行真空溅射得到初级镀层；步骤四、真空溅射第二镀层：采用...
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