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本发明提供了一种高分辨率Micro‑OLED的制备方法，包括如下步骤：S1：提供一衬底基板，在所述衬底基板上制备发光像素层；S2：在所述发光像素层上制备薄膜封装层，以对所述发光像素层进行封装；S3：在所述薄膜封装层上制备黑色矩阵层以及将一种...
该专利属于昆山梦显电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山梦显电子科技有限公司授权不得商用。

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