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用于在垂直功率器件中减小接触注入物向外扩散的氧插入的Si层制造技术
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下载用于在垂直功率器件中减小接触注入物向外扩散的氧插入的Si层的技术资料
文档序号:23402747
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用于在垂直功率器件中减小接触注入物向外扩散的氧插入的Si层。一种半导体器件包括:延伸到Si衬底中的栅沟槽,该栅沟槽包括栅电极和将栅电极与Si衬底分离的栅电介质。该半导体器件进一步包括:在Si衬底中与栅沟槽相邻的本体区,该本体区包括沿栅沟槽的...
该专利属于英飞凌科技奥地利有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过英飞凌科技奥地利有限公司授权不得商用。
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