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本申请涉及半导体集成电路领域，公开一种用于形成图形的方法，包括：提供有硬掩膜层的衬底，在硬掩膜层上涂覆光刻胶层并曝光和显影以形成凸点状图形阵列，其包括多个重复单元区，每个被定义为由三个或以上凸点图形为边角点围成的多边形区；在凸点图形和硬掩膜...
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