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本发明涉及一种用于台面器件的高涂布均匀性负性光刻胶组合物，包括环化聚异戊二烯：重均分子量范围为20W~30W，分子量分布Mw/Mn范围为1.0～2.0，环化率55%~85%；环化聚丁二烯：重均分子量范围为2W~4W，分子量分布Mw/Mn范围...
该专利属于苏州瑞红电子化学品有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州瑞红电子化学品有限公司授权不得商用。

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