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本发明提供了一种光致抗蚀剂组合物、其图案形成方法及应用。该光致抗蚀剂组合物包括a组分和b组分，该a组分为光产酸剂，该b组分为光阻聚合物，其中该光产酸剂为式(Ⅰ)、式(Ⅱ)、式(Ⅲ)、式(Ⅳ)、式(Ⅴ)以及式(Ⅵ)所示的化合物中的一种或多种。...该专利属于常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司授权不得商用。