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一种清洗剂及应用清洗剂清洗半导体硅片的方法技术
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文档序号:23360715
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本发明公开了一种具有良好清洗效果的清洗剂,其包括:试剂一:体积比为3:1:2:3的丙二醇或异丙醇、壬基酚聚氧乙烯醚、反‑1,2‑二氯乙烯、去离子水混合溶液;试剂二:体积比为4:1的硫酸、双氧水混合溶液;试剂三:体积比为1:1:5的氢氧化铵、...
该专利属于无锡乐东微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡乐东微电子有限公司授权不得商用。
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