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一种提高单位面积电流密度的MOSFET结构制造技术
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下载一种提高单位面积电流密度的MOSFET结构的技术资料
文档序号:23354462
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本实用新型公开了一种提高单位面积电流密度的MOSFET结构,包括条形结构的N+衬底,N+衬底上设置有N‑外延层,N‑外延层上纵向设置有源N+扩散窗口,N‑外延层的左右两侧沿源N+扩散窗口的纵向方向分别设置有栅氧化层,每个栅氧化层上依次设置有...
该专利属于西安卫光科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过西安卫光科技有限公司授权不得商用。
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