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本发明公开了一种阵列基板及其制作方法，通过在形成第一钝化层后直接将残余气体抽出该密闭腔室，防止残余气体反应在第一钝化层上形成不稳定层；并且在残余气体抽出后会在密闭腔室内充入预设气体，并保持第一预设时间后抽出，该预设气体的保持可以有效的缓解静...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。