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本发明公开了一种中波红外增透膜设计及制备方法，包括步骤：膜系设计，基片清洗，基片加热，膜系镀制。基片材料为折射率为1～5的红外窗口玻璃，高折射率镀膜材料的折射率为1.5～3，低折射率镀膜材料的折射率为1～1.5，使用离子辅助沉积及合适的烘烤...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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