一种中波红外增透膜设计及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种中波红外增透膜设计及制备方法，包括步骤：膜系设计，基片清洗，基片加热，膜系镀制。基片材料为折射率为1～5的红外窗口玻璃，高折射率镀膜材料的折射率为1.5～3，低折射率镀膜材料的折射率为1～1.5，使用离子辅助沉积及合适的烘烤温度等特定的工艺条件，采用双面镀膜方式可实现5mm厚的FGa玻璃在3.7um～5um中红外波段具有良好的透过效果，平均透过率>92％。该发明专利技术可提高中红外窗口的光学效率，在红外探测方便具有明显优势。

Design and preparation of a medium wave infrared antireflection film

【技术实现步骤摘要】
一种中波红外增透膜设计及制备方法
本专利技术属于真空镀膜领域，涉及一种中波红外增透膜设计及制备方法。
技术介绍
随着红外技术的不断发展，红外窗口薄膜在国防军事领域具有重要的作用。在红外探测系统中，需要提高红外波段透过率进而提高光学系统的灵敏度。
技术实现思路
本专利技术所采用的技术解决方案如下：为了解决上述问题，本专利技术提供了一种中波红外增透膜设计及制备方法，其包括如下步骤：(1)膜系设计：两面膜系结构均为Sub/(aiHbiL)m/Air，m≥1，i＝1，2，…，m。其中，H代表高折射率镀膜材料其折射率为1.5～3，L代表低折射率镀膜材料其折射率为1～1.5，ai和bi分别代表每层膜的光学厚度系数，其数值大小和参考波长λ有关，m为周期数，且0≤(aiλ)≤2000，0≤(biλ)≤12000；(2)基片清洗：对待镀膜元件进行表面清洁；(3)基片加热：对待镀膜元件进行真空烘烤加热；(4)离子束清洗：对待镀膜元件进行离子束清洗；(5)第一面膜系镀制：根据步骤(1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种中波红外增透膜设计及制备方法，其特征在于，包括如下步骤：/n(1)膜系设计：/n两面膜系结构均为Sub/(a

【技术特征摘要】
1.一种中波红外增透膜设计及制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)膜系设计：
两面膜系结构均为Sub/(aiHbiL)m/Air，m≥1，i＝1，2，…，m；
其中，H代表高折射率镀膜材料其折射率为1.5～3，L代表低折射率镀膜材料其折射率为1～1.5，ai和bi分别代表每层膜的光学厚度系数，其数值大小和参考波长λ有关，m为周期数，且0≤(aiλ)≤2000，0≤(biλ)≤12000；
(2)基片清洗：对待镀膜元件进行表面清洁；
(3)基片加热：镀膜前对镀膜元件进行烘烤加热，提高基片温度；
(4)离子束清洗：对待镀膜元件进行离子束清洗；
(5)第一面膜系镀制：根据步骤(1)中的膜系结构，对待镀膜元件第一面各膜层依次镀制；
(6)第二面膜系镀制：待第一面膜系镀制完成后，取出元件，重复步骤(2)～(4)对第二面各膜层依次镀制。


2.如权利要求1所述的中波红外增透膜的设计及制备方法，其特征在于，所述基底为红外窗口材料，优选为FGa玻璃、蓝宝石、尖晶石、硫化锌、硒化锌、氟化镁、金红石、氟化钙、氧化钇、氧化锆、硅或锗；所述H为ZnS、ZnSe、YbF3、YF3、BaF2、HfO2、Ta2O5、Nb2O5、TiO2、Y2O3、ZrO2、Al2O3或SiO；所述L为MgF2、CaF2...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭猛，贺洪波，易葵，邵淑英，朱美萍，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：上海;31