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本发明涉及光致抗蚀剂组合物和使用其的光致抗蚀剂膜，所述光致抗蚀剂组合物能够在形成精细图案期间实现优异的图案性能，并且能够制备具有优异的镀覆液化学稳定性的光致抗蚀剂膜。...
该专利属于株式会社LG化学所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社LG化学授权不得商用。

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