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本发明提供一种基板处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质，其目的在于根据工艺的类别和/或要形成的膜种类变更移载室的气体环境。基板处理装置具备：进气阻尼器及进气扇，它们与向连接于进行基板处理的处理室的移载室吸入空气的进气口连通；非活性气体导...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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