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一种无掩模曝光装置，包括光源、光学头(包括光调制器和光学系统，并且反射来自光源的光以将光辐射到要曝光的基板)、支撑基板并在扫描方向上移动基板的平台，其中旋转基板使得基板的参考线相对于扫描方向成第一角度，以及旋转光学头的光学头旋转单元。当在基...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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