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本实用新型提供了一种化学机械研磨设备，该设备包括研磨台、研磨台支撑部件、挡板以及挡板清洗装置；研磨台设置于研磨台支撑部件上，用于研磨晶圆；挡板围绕研磨台设置并与研磨台相距一预设距离，用于隔挡从研磨台甩出的研磨液；挡板清洗装置设置于所述研磨台...
该专利属于德淮半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过德淮半导体有限公司授权不得商用。

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