温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种半导体版图和半导体版图的布局方法。所述半导体版图包括：预定区域和填充区域；所述预定区域包括有源层，和/或，栅层；所述填充区域包括至少一个填充图形，所述填充图形包括填充有源层和填充栅层，所述填充图形的...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。