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本实用新型涉及一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置，属于趋磁细菌培养技术领域。本实用新型所述控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置包括：气体源(1)、西林瓶(2)和过气管(3)；所述气体源(1)包括氮气源和氧气源；所述过气管(3)的进气口与气体源...
该专利属于甘肃中医药大学所有，仅供学习研究参考，未经过甘肃中医药大学授权不得商用。

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