一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置，属于趋磁细菌培养技术领域。本实用新型专利技术所述控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置包括：气体源(1)、西林瓶(2)和过气管(3)；所述气体源(1)包括氮气源和氧气源；所述过气管(3)的进气口与气体源(1)连接；所述过气管(3)的出气口连接有去除活塞的注射器(4)，去除活塞的注射器(4)的针头用于与西林瓶(2)相连；所述去除活塞的注射器(4)内填充棉花(5)。本实用新型专利技术所述装置简单易操作，不但能满足趋磁细菌生长环境中微需氧的要求，而且还可以保证操作过程中细菌不易受到污染。该装置成本低廉，简单易行。

A device for controlling oxygen concentration in the process of magnetotactic bacteria culture

【技术实现步骤摘要】
一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置
本技术涉及趋磁细菌培养条件控制
，具体涉及一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置，即微需氧趋磁细菌生长环境中氧浓度控制的装置。
技术介绍
趋磁细菌是一类可以通过生物矿化在体内生成磁小体纳米颗粒的一类菌群。由于磁小体的独特性质，目前关于磁小体的研究已在多个相关领域成为研究热点，对其的开发和应用潜在着巨大的科研价值和商业价值。但是趋磁细菌是一类对生长环境要求较严格的微需氧细菌，即不同于常规的需氧菌群(O2浓度约为20％)，又有别于厌氧菌群(不需要O2)，其生长所需的氧浓度只有1％左右。如果不能精确控制其生长环境中的氧浓度，会直接影响到磁小体的合成。因此，对其生长环境中氧浓度的控制是培养这类细菌需要解决的首要关键问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置。本技术所述装置简单易操作，不但能满足趋磁细菌生长环境中微需氧的要求，而且还可以保证操作过程中细菌不易受到污染。该装置成本低廉，简单易行。本技术提供了一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置，所述装置包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置，其特征在于，所述装置包括：气体源(1)、西林瓶(2)和过气管(3)；所述气体源(1)包括氮气源和氧气源；所述过气管(3)的进气口与气体源(1)连接；所述过气管(3)的出气口连接有去除活塞的注射器(4)，去除活塞的注射器(4)的针头用于与西林瓶(2)相连；所述去除活塞的注射器(4)内填充棉花(5)。/n

【技术特征摘要】
1.一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置，其特征在于，所述装置包括：气体源(1)、西林瓶(2)和过气管(3)；所述气体源(1)包括氮气源和氧气源；所述过气管(3)的进气口与气体源(1)连接；所述过气管(3)的出气口连接有去除活塞的注射器(4)，去除活塞的注射器(4)的针头用于与西林瓶(2)相连；所述去除活塞的注射器(4)内填充棉花(5)。


2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述过气管(3)的出气口有一个或多个，每个出气口分别与一个西林瓶(2)相连。


3.根据权利要求1所述的装置，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：张薇薇，
申请(专利权)人：甘肃中医药大学，
类型：新型
国别省市：甘肃;62