下载NAND存储器及其形成方法的技术资料

文档序号:23192511

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本发明提供了一种NAND存储器及其形成方法,基底包括多个交替排布的第一有源区和隔离区,以及连接第一有源区的第二有源区,在基底上形成与第一有源区相交的多条源极选择线、漏极选择线以及字线,字线位于源极选择线和漏极选择线之间,且第二有源区位于相邻...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。

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