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本发明涉及耐大压降和大纹波电流电容,包括化成箔,所述化成箔包括正箔与负箔,所述正箔的制备工艺包括以下步骤:S1.采用中高压腐蚀铝箔,并对中高压腐蚀铝箔进行前处理;S2.使用化成液对中高压腐蚀铝箔进行三级化成处理,化成液温度<60℃,化成电压...该专利属于富之庆电子(深圳)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过富之庆电子(深圳)有限公司授权不得商用。
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本发明涉及耐大压降和大纹波电流电容,包括化成箔,所述化成箔包括正箔与负箔,所述正箔的制备工艺包括以下步骤:S1.采用中高压腐蚀铝箔,并对中高压腐蚀铝箔进行前处理;S2.使用化成液对中高压腐蚀铝箔进行三级化成处理,化成液温度<60℃,化成电压...